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化学气相沉淀


http://www.qianlong.com/2010-01-25 16:27:51千龙网
化学气相沉淀(PECVD ) :利用高频在两个平板电极之间激发气体放电形成等离子体,使气态物质在较低温度下就能发生化学反应,从而实现薄膜材料生长的一种新的装备技术。该技术可广泛用于导电薄膜(如多晶硅、非晶硅)或绝缘薄膜(如氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃等)制造。这些薄膜经过光刻和腐蚀,可形成各种电路图案,与其他工艺相配合即可构成集成电路。
编辑:鹿港 来源:千龙网
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